半導體行業(yè)進入中國后，給中國帶來了巨大的經(jīng)濟利益，刺激了中國對于半導體產(chǎn)業(yè)的需求，但是它同時帶給中國的環(huán)境問題是不同忽視的。半導體行業(yè)在進行生產(chǎn)的過程中，會產(chǎn)生大量的廢水。其中含氟廢水對于環(huán)境的影響很大，危害也愈加嚴重，因此含氟廢水的處理在半導體生產(chǎn)過程中是*的環(huán)節(jié)。半導體行業(yè)的含氟廢水處理常采用的方法為化學沉淀法和混凝劑沉降法兩種，無論是哪種除氟的方法，都需要進行除氟工藝的優(yōu)化，才能有效提高除氟水平。以下將兩種除氟方法進行組合，形成氟化鈣絮凝沉淀法，使用化學沉淀法進行含氟廢水的處理原理可以用以下化學方程式來體現(xiàn)：Ca 2+ +2F - =CaF 2 ↓加入的 CaCl 2 是過量的，在加入之前為了保證 pH 值為8左右，因此還需要加入NaOH，然后加入絮凝劑，讓形成的沉淀 CaF2成為礬花，從而更加有利于分離。加入絮凝劑后，含氟廢水會發(fā)生絮凝反應，之后，通過泥水分離方法，含氟沉淀很快分離出來，被污泥泵抽到污泥濃縮池中，再用壓濾機壓成泥餅，而分離出來的上清液則進入中和池，經(jīng)過再度監(jiān)測后便可進行排放。檢查的水質(zhì)不合格的需要進行二次處理，直到合格后方可排出。廢水排放的形式為連續(xù)排放，每次排放量為 480t/d。通過上述的原理分析，本半導體企業(yè)在進行含氟廢水的處理過程中，按照以下的除氟工藝流程來進行含氟廢水的處理。

該種方法，既能夠讓含氟廢水的中的氟離子得到有效的清除，還能夠有效解決日常含氟廢水處理后出現(xiàn)的水質(zhì)不穩(wěn)定，藥劑使用量不確定以及二次污染等問題，在工藝流程上也比較簡單，費用也比較低，對于半導體行業(yè)的除氟處理具有很大的適用性。

環(huán)瑞的除氟劑利用化學沉淀法深度除氟，同時，適配各行業(yè)含氟廢水，無需吸附法繁瑣的流程；相較于市面技術、產(chǎn)品、用量、污泥量均少30-50%；無硬度，不結垢，可適配零排系統(tǒng)。環(huán)瑞的除氟劑對含氟廢水的處理效果明顯，運行穩(wěn)定，兼顧了經(jīng)濟效益和環(huán)境效益，值得在半導體行業(yè)推廣。